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- CleanMill氬離子研磨系統(tǒng)
CleanMill氬離子研磨系統(tǒng)為電池樣品SEM表征提供高質(zhì)量的制樣方案，傳統(tǒng)的機(jī)械研磨方式制備樣品斷面，斷面不可避免的存在機(jī)械損傷和磨料嵌入樣品引起的污染。使用氬離子束切割樣品制備，可以制備出沒(méi)有機(jī)械損傷和表面污染的平整斷面，非常適用于制備電池材料和部件的斷面樣品，從而進(jìn)行掃 描電子顯微鏡結(jié)構(gòu)表征分析。
- 訪(fǎng)問(wèn)量：3873
- 更新日期：2025-09-10 ￥面議
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- XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀
XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了Ｘ射線(xiàn)毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù)，利用該技術(shù)，即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。Ｘ射線(xiàn)毛細(xì)導(dǎo)管將Ｘ射線(xiàn)源的大部分射線(xiàn)收集，并將其聚焦成直徑35微米的一個(gè)Ｘ射線(xiàn)點(diǎn)。
- 訪(fǎng)問(wèn)量：3236
- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
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- 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685
精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685，一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。
- 訪(fǎng)問(wèn)量：3866
- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
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- ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)
ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)，是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學(xué)采集和色散能力，采用陣列光電倍增管得到高增益光探測(cè)能力。通過(guò)DigitalMicrograph軟件實(shí)時(shí)地將光子脈沖信號(hào)混合成實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光圖像。
- 訪(fǎng)問(wèn)量：3289
- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
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- Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525
Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525,精悍緊湊，能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)接口，它包含一個(gè)絕熱接口，適用于二次電子像、電子背散射衍射（EBSD）與聚焦離子束（FIB）加工。能夠?qū)Υ笾?mm x 4.5mm x 1.5mm大小的樣品進(jìn)行快速加熱。
- 訪(fǎng)問(wèn)量：3646
- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
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- MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái)
MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái)，可以對(duì)金屬樣品施加高達(dá)2000N的拉力，用戶(hù)EBSD分析，或者對(duì)一些其他材料進(jìn)行常規(guī)的應(yīng)力-應(yīng)變分析和SEM成像。試樣夾具70度角度傾斜，為EBSD分析提供了的設(shè)置。
- 訪(fǎng)問(wèn)量：2892
- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
